这种DNA加工纳米图形的方法叫做DNA投影纳米印刷术，也可以叫做DNA模板印刷术。
这种方法可以利用DNA为模板来定义基片图案。
原理是把DNA在基片上排列整齐，再在上面沉积一层金属膜。
DNA分子起纳米蜡纸的作用，由于金属膜以一定角度沉积，DNA分子的投影便定义了基片上的图案。
接下来再使用等离子体刻蚀机对图案表面进行刻蚀，便可以在基片上便可得到纳米尺寸的沟槽。
这样就正好绕开了光刻步骤！
光刻机在芯片生产中很重要，但是它的作用其实很简单。
光刻机在芯片生产中的作用就是通过光源与基片上面的光刻胶发生反应，使得照射部分的光刻胶变质，易于腐蚀，从而在光刻胶上面“画”出电路图案。
接下来便可以把变质部分的光刻胶腐蚀掉，然后再对晶圆本身进行腐蚀，从而形成半导体器件及其电路。
也就是说光刻机起到的只是一个定位的作用，真正的电路形成还是得看刻蚀！
而现在这个定位的作用可以由DNA模板来完成！
如果按照这种技术思路走下去，那未来的碳基芯片制备就是走化生的方式，完全是从各种溶液里面泡出来。
因为除了碳纳米管，类似像金属，氧化物等纳米材料也可以用DNA工具进行生长，搭建，组装。
由此可见直接从溶液里面把碳纳米晶体管泡出来，再组装到芯片上来的情况也不是不可能。
而且这种技术也符合陈神的需求，只有这种可以摆脱光刻机加工的新技术，才有可能在当前满足绿洲系列碳基芯片的生产加工。
最关键的是，陈神还真在系统提供的加工资料里面找到了对应的DNA模板印刷术！
系统的技术资料极其齐全，有碳基芯片生产的所有环节，其中这个制造纳米图形的环节，生产工艺不仅有光刻技术，还有DNA模板印刷术。
这说明在系统的推算下，不仅光刻机可以用来制造碳基芯片，DNA模板印刷术也一样可以！
这两者的作用的确是等同的。
而且跟以往一样，系统提供的DNA模板印刷术比起目前的水准还要高上几个世代，完美解决了这项技术在碳基芯片生产上的应用问题。
连带着其他如碳纳米管提纯、碳纳米管组装排列技术等等步骤的工艺也同样要领先当前好几个世代。
不过这些技术都没有完全超脱当前的理论基础，更像是现在的技术理论发展了几十年之后的样子。
陈神把光刻和DNA模板印刷这两种工艺仔细研究，很快就对比出两种方法的差别。
使用光刻机的话，最大的好处就是方便，基本上可以直接使用现在硅基芯片使用的光刻机。
而使用DNA模板印刷术，则需要为这种工艺特别建立起一条供应链。
不过这种工艺最大的一个好处就是生产方便，对生产环境要求比光刻机要低至少一半，也无需在暗室中进行。
而且想使用这种技术制造更高精度的纳米图形，难度也比研究升级一台光刻机要容易。